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多功能磁控濺射鍍膜設備

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多功能磁控濺射鍍膜設備

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  本系統為單室結構的超高真空多功能磁控濺射鍍膜系統,可用于開發納米級的單層、多層功能膜及復合膜-各種硬質膜、金屬膜、合金膜、介質膜等。
  磁控濺射室約Φ400×400mm,為筒形立式全不銹鋼結構、可安裝三只標準磁控靶,外表面噴丸亞光處理。前開門裝片,采用向心濺射方式,磁控靶60mm、導磁及非導磁的仿進口標準靶,每只靶都有獨立擋板。樣品臺可加熱可旋轉。
 
 
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