imgboxbg
您現在的位置:
首頁
/
/
/
/
團簇式高真空多功能鍍膜設備

產品分類

產品詳情

瀏覽量:
1000

團簇式高真空多功能鍍膜設備

零售價
0.0
市場價
0.0
瀏覽量:
1000
產品編號
數量
-
+
庫存:
1
產品描述
參數
設備特點:
1. 采用手套箱,滿足用戶水氧含量均小于1ppm的要求
2. 真空在線可多次掩膜,并可滿足用戶對襯底與掩膜板之間無間隙要求
3. 蒸發電極為全封閉,高溫鎢極,該蒸發源為本公司獨創
4. 有機束源爐也是本公司專利,700℃內可精確控溫,并為全封閉結構,有效避免了交叉污染
5. 蒸發室及磁控濺射室都配有可加熱能升降可旋轉的高真空樣品安放臺,升降行程40-100mm(可由用戶確定),加熱溫度室溫到300℃,連續可調,誤差±1℃。所有功能均由電動實現,觸摸屏操作
主要技術參數:
1. 兩個鍍膜室的極限真空度可達3*10-5pa,傳遞室和樣品庫5*10-4pa,系統漏率1*10-8pa/s
2. 可鍍樣品最大尺寸100mm*100mm,樣品加熱溫度最高300℃。成膜均勻度≤±5%
3. 樣品臺可旋轉,轉速為每分鐘2-30轉連續可調
4. 金屬蒸發電極最高溫度2000℃,有機蒸發源最高溫度700℃
5. 可一次裝卡4個基片,可進行多次掩膜,可真空在線制作四個器件。保證掩膜板與襯底間無間隙的最佳要求
6. 磁控靶最大功率500W,擺頭角度40°
 
 
 
掃二維碼用手機看
未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加

相關產品

雙室磁控及熱蒸發設備

雙室磁控及熱蒸發設備

電子束及磁控濺射設備

電子束及磁控濺射設備

團簇式高真空多功能鍍膜設備

團簇式高真空多功能鍍膜設備

磁控濺射

磁控濺射

磁控濺射

磁控濺射

多功能磁控濺射鍍膜設備

多功能磁控濺射鍍膜設備

立式矩形靶磁控濺射設備(四靶位)

立式矩形靶磁控濺射設備(四靶位)

四靶磁控濺射鍍膜設備1

四靶磁控濺射鍍膜設備1

雙室磁控及熱蒸發設備

雙室磁控及熱蒸發設備

Prev
Next

CONTACT INFORMATION

聯系方式

遼寧省沈陽市沈北新區聯東U谷四期6-5號

MOBILE WEB SITE

移動官網

歡迎訪問我們移動端網站

Mobile web site

ONLINE MESSAGE

請您留言

留言應用名稱:
客戶留言
描述:
驗證碼

       Copyright ? 沈陽科誠真空技術有限公司 2021 All rights reserved        備案號:遼ICP備10014065號        網站建設:中企動力  沈陽

强 暴 处 疼哭 身子视频